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          雙室磁控濺射鍍膜機HD-CK1600-ICP

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          雙室及多腔室磁控濺射鍍膜設備:

               雙室磁控濺射鍍膜機HD-CK1600-ICP是一款高兼容性設備,適合做菲林(NCVM)、車載、攝像頭超硬AR、IR-CUT等濾光片、人臉識等產品;可制備NB2O5,SIO2 ,SI3N4,SIH,Cr,In等不同膜層,鍍膜工藝室不破空,穩定性重復性優異,采取整鼓平移連續的方式。

          工件轉動:1~120r/min無極可調
          極限真空:<2.0E-4Pa
          膜層均勻性: ≤1%(T Max.-Tmin.)/( T Max.+Tmin.)
          有效鍍膜尺寸
               HD-CK1600-ICP有效濺射區域Φ1600mm*H800mm

          公司自成立以來,一直是真空鍍膜設備行業內的龍頭企業,是行業內少數具有鍍膜生產線設備整體設計及系統集成能力的企業之一,被中國通用機械工業協會真空設備分會認定為“真空設備行業重點企業”和“國內真空鍍...

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