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          EN|中文

          三室磁控濺射鍍膜機(ICP離化型式)

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          三室磁控濺射鍍膜機(ICP離化型式):

               三室磁控濺射鍍膜機是一款高兼容性設備,采用ICP 后離化模式,鍍膜效率高,適合做菲林(NCVM)、車載、攝像頭超硬AR、IR-CUT等濾光片、人臉識等產品??芍苽銷B2O5,SIO2 ,SI3N4,SIH,Cr,In等不同膜層,鍍膜工藝室不破空,穩定性重復性優異,采取整鼓平移連續的方式,省去抽放氣時間,極大提高生產效率。兼容3D異型車載玻璃。

          工件轉動:1~120r/min無極可調
          極限真空:<2.0E-4Pa
          膜層均勻性: ≤1%(T Max.-Tmin.)/( T Max.+Tmin.)
          有效鍍膜尺寸

          HD-SCK1600-ICP有效濺濺射高度850mm,

          HD-SCK1800-ICP有效濺射高度1250mm.

          HD-SCK1800H-ICP有效濺射尺寸1500mm



          公司自成立以來,一直是真空鍍膜設備行業內的龍頭企業,是行業內少數具有鍍膜生產線設備整體設計及系統集成能力的企業之一,被中國通用機械工業協會真空設備分會認定為“真空設備行業重點企業”和“國內真空鍍...

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