立式真空磁控濺射鍍膜連續線:
◆生產節拍：≥45s
◆產品：ITO、AR膜、消影、硬膜、金屬膜、超高阻膜、低溫鍍膜
◆可鍍膜尺寸：G3.5-8.5
◆膜層均勻性： 根據不同靶材料均勻性控制不同:1.5%~5%（T Max.-Tmin.）/( T Max.+Tmin.)
◆設備特點：可單面，雙面鍍膜，腔體模塊式設計
立式真空磁控濺射鍍膜連續線:
◆生產節拍：≥45s
◆產品：ITO、AR膜、消影、硬膜、金屬膜、超高阻膜、低溫鍍膜
◆可鍍膜尺寸：G3.5-8.5
◆膜層均勻性： 根據不同靶材料均勻性控制不同:1.5%~5%（T Max.-Tmin.）/( T Max.+Tmin.)
◆設備特點：可單面，雙面鍍膜，腔體模塊式設計
公司自成立以來，一直是真空鍍膜設備行業內的龍頭企業，是行業內少數具有鍍膜生產線設備整體設計及系統集成能力的企業之一，被中國通用機械工業協會真空設備分會認定為“真空設備行業重點企業”和“國內真空鍍...
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