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          EN|中文

          四室磁控濺射鍍膜機AR+DLC+AF

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          四室及多腔室磁控濺射鍍膜設備:

               HD-SSCK1600-ICP是一款高兼容性設備,主要生產AR+DLC+AF ,NCVM+DLC+AF,同時可兼容菲林(NCVM)、車載、攝像頭超硬AR、IR-CUT等濾光片、人臉識別等產品。

               設備鍍膜工藝室不破空,功能鍍膜腔體分離,互不污染,穩定性重復性優異,采取整鼓平移連續的方式,省去抽放氣時間,極大提高生產效率。

          工件轉動:1~120r/min無極可調
          極限真空:<2.0E-4Pa
          膜層均勻性: ≤1%(T Max.-Tmin.)/( T Max.+Tmin.)
          有效鍍膜尺寸:Φ1600mm*H800
          特點:四個功能腔室,互不污染,單腔體實現功能可做模塊化調整。
          標準配置:CM1:前處理室(plasma),CM2:光學鍍膜室(AR、NCVM等),CM3室:DLC 鍍膜室,CM4室:AF 蒸發室
          優勢產品:AR+DLC+AF;  NCVM+DLC+AF  鋼絲絨耐磨5000次水滴角大于100度,莫氏硬度>8(500g)


          公司自成立以來,一直是真空鍍膜設備行業內的龍頭企業,是行業內少數具有鍍膜生產線設備整體設計及系統集成能力的企業之一,被中國通用機械工業協會真空設備分會認定為“真空設備行業重點企業”和“國內真空鍍...

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